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  • 激光直寫無掩膜光刻機
    激光直寫無掩膜光刻機

    激光直寫無掩膜光刻機紫外光直寫曝光 ,無需掩模,大幅節約了掩模加工費用,靈活性高,可直接通過電腦設計光刻圖形,并可根據設計要求隨意調整,可升級開放性系統設計,按照客戶要求自由配置,使用維護簡單, 設備耗材價格低,應用范圍廣,目前廣泛應用于半導體、生物芯片、微機電系統、傳感器、微化學、光學等領域。

    更新時間:2025-12-04型號:
  • spin coater勻膠機
    spin coater勻膠機

    spin coater勻膠機既在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同,也和旋轉速度及時間有關。

    更新時間:2025-12-04型號:
  • mask aligner半自動光刻機
    mask aligner半自動光刻機

    mask aligner半自動光刻機該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

    更新時間:2025-12-04型號:
  • 勻膠機,旋涂儀
    勻膠機,旋涂儀

    勻膠機,旋涂儀其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同, 也和旋轉速度及時間有關。

    更新時間:2025-12-03型號:
  • HOLOPRINT 納米壓印
    HOLOPRINT 納米壓印

    HOLOPRINT 納米壓印,使用戶能夠實驗和測試許多壓印技術;光固化樹脂和加工參數,如壓力、速度和光照強度。這些檢查對于在大規模生產之前進行擴展非常有用 - 在內部構建原型的能力將節省時間和資源。HoloPrint® uniA6 DT還允許中開發壓印模板。

    更新時間:2025-12-04型號:
  • MDA-20SA光刻機
    MDA-20SA光刻機

    MDA-20SA光刻機產地:韓國MIDAS公司,唯1能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比。

    更新時間:2025-12-04型號:
  • PL SERIES納米壓印
    PL SERIES納米壓印

    PL SERIES納米壓印,提供了一個帶有微定位裝置的機械平臺,用于安裝納米壓印室、UV固化源和校準顯微鏡。它既可以作為納米壓印系統,也可以作為傳統的掩模對準器,同時為您的整個壓印過程提供可編程的自動控制。

    更新時間:2025-12-04型號:
  • MDA-80FA全自動光刻機
    MDA-80FA全自動光刻機

    MDA-80FA全自動光刻機,操作簡單,PLC操作,PC控制,圖像采集和數據記錄,100多個程序配方,顯微鏡位置控制系統,自動對齊標記搜索功能。

    更新時間:2025-12-04型號:
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